誠峰Crf等離子清洗設備去除肉眼不可見的微觀污染物質(zhì):
       Crf等離子清洗設備是由正負電荷的離子和電子也可能由一些中性原子和分子組成，宏觀上一般為電中性。等離子可以是固體的。液體和的氣體。電離的氣體是一種的氣體等離子。等離子的基本流程是在電場和磁場的影響下，多種帶電顆粒物相互間的相互作用力形成各種效應。

      Crf等離子清洗設備適用于清洗液晶面板的活化的氣體是氧等離子。等離子清洗以去除油污和有機污染物質(zhì)顆粒物，因為氧等離子可以氧化有機物并形成的氣體排放。增強偏光板粘貼的成品率，大大提高電極與導電膜的附著力，提高產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性。
等離子清洗設備實際上是一種高精度的干式清洗設備。等離子處理設備的清洗范圍為納米級有機和無機污染物質(zhì)。低壓的氣體光等離子主要用于等離子清洗設備的處理和應用。一些非聚合物無機的氣體（Ar.N2.H2.O2等）受到高頻和低壓的刺激，形成多種活性粒子，如離子、激發(fā)態(tài)分子和自由基。
         Crf等離子清洗設備的處理可分為兩類：一類是惰性氣體的等離子（如Ar.N2等）；另一類是反應性氣體的等離子（如O2.H2等）。這些活性粒子可以與表面材料發(fā)生反應，并刺激態(tài)分子清潔活化表面。等離子形成的原理如下：對一組電極施加射頻電壓（頻率約為幾十兆赫茲），在交變電場的沖擊下，在電極相互間形成高頻交變電場區(qū)域內(nèi)的的氣體形成等離子。活性等離子對被清洗物體進行表面物理轟擊和化學反應，使被清洗物體的表面物質(zhì)變成顆粒物和的氣體物質(zhì)，通過抽真空排出達到清洗的目的。隨著LCD工藝水平的快速發(fā)展，LCD制造技術的極限不斷受到挑戰(zhàn)，并發(fā)展成為代表制造技術的前沿技術。在清潔行業(yè)，清潔的要求也越來越高，常規(guī)清潔不能滿足要求，等離子清洗設備更理想地解決了這些精密清潔的要求，滿足了當今的環(huán)境保護情況。