超光滑基片基于電漿清洗機的應用研究：
       電漿清洗機可以濺射去除加工變質層，降低表面粗糙度，提高基片表面潔凈度和表面能.優(yōu)化后的參量證實， 經(jīng)等離子處理的基片比未經(jīng)電漿清洗機處理的基片鍍膜后損耗平均降低34.2ppm，并且顯示出良好的一致性。

       近年來隨著半導體技術和光學技術的飛速發(fā)展，超光滑表面的應用日益廣泛，對超光滑表面質量的要求也越來越高。在激光陀螺制造中，反射鏡基片的加工質量直接影響鍍膜后反射鏡的光學性能和光學元件間的光膠質量，進而影響陀螺的準確度穩(wěn)定性和可靠性。
       目前，超光滑表面主要是通過拋光獲得，由于加工特性及環(huán)境因素，拋光后的超光滑表面吸附有大量顆粒有機質等污染物，并且通過瀝青拋光工藝獲得的光學表面是一個“偽表面”，即存在加工變質層，它是由流變層損傷層及水解物層等構成的。
“偽表面”內部有大量缺陷，活性高，在鍍膜過程中極易成為成核中心，嚴重影響了膜層的物理結構，從而對反射鏡光學性能產生很大影響。
       為了描述真實表面，把表面分為：外表面層(污染物、吸附層)和內表面層(加工變質層)。傳統(tǒng)表面處理主要采取刷洗和超聲波清洗等，由于技術本身的原因，只能去除表面吸附的污物即外表面層，對內表面層(拋光變質層)沒有作用。
       電漿清洗機是近十幾年來發(fā)展起來的一項技術，由于其采用全干法、無污染處理效果好而廣泛應用。電漿清洗機中離子能量達到數(shù)百電子伏特，不僅可以去除表面吸附微細雜質，而且還可以對基片表面進行濺射拋光。等離子體處理可以降低基片表面粗糙度，去除加工變質層。
       射頻功率直接影響氣體電離的密度和離子的能量，進而影響等離子體對基片表面作用效果。等離子體表面處理是利用高能離子作用于基片表面，通過碰撞優(yōu)先濺射掉表面松散原子層(即拋光變質層)，又處理是在真空環(huán)境下進行，基片表面不易被污染，從而獲得新鮮的致密的真實表面，提高了超光滑光學表面的質量，有利于外延膜的生長。
       電漿清洗機處理前，液滴在基片表面沒有鋪展開，并且形狀不規(guī)則；經(jīng)等離子體處理后，液滴在表面鋪展開，平均鋪展面積是處理前的4.6倍，并且形狀為規(guī)則圓形。這說明基片經(jīng)等離子體處理后， 表面能得到提高而且變得均勻。
       瀝青拋光的基片表面必然存在加工變質層，等離子體處理可以濺射去除加工變質層，減少表面缺陷，大大提高了基片表面潔凈度和表面能，從而獲得新鮮致密均勻、平坦的超光滑表面。