CRF plasma 等離子清洗機

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plasma電源

CRF-APO-RP1020-D

可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節(jié)省客戶使用空間;

可ln-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;

使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;

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設(shè)備詳細數(shù)據(jù)

封裝前等離子清理和激活:
等離子體處理儀清洗活性技術(shù)性對半導(dǎo)體材料微集成電路芯片中的封裝模粘合特性提高有顯著的改善效果。高活性等離子體運用自由基的有機化學(xué)動能對各種各樣底材表層開展處理:焊接料掩膜材料、模具鈍化處理層、焊盤和引線框架表層等。這清除了模具分層的難題,并且根據(jù)應(yīng)用聚乙烯醇的等離子體,沒有靜電感應(yīng)放電或其他潛在性的危害不良反應(yīng)。

深圳誠峰智造等離子清洗機

500強企業(yè)長期選擇品牌

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  • 專業(yè)的研發(fā)團隊

    擁有多名從業(yè)十多年的組裝工程師

  • 先進的設(shè)備

    認真對待每一次設(shè)備試驗

  • 嚴格的質(zhì)量控制

    設(shè)備出廠前連續(xù)24小時運行調(diào)試

  • 完善的服務(wù)體系

    集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

  • 服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛

    專注等離子研發(fā)20年,服務(wù)多種行業(yè)

  • 可特殊定制設(shè)備

    完全按照客戶需求制作設(shè)備

多項專利證書,廠家實力認證

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